等離子清洗機裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。

　　等離子體清洗依靠等離子體中活性粒子的“活化作用“達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態；氣相物質被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子；產物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。有效地防備了因液體沖刷介質對被沖刷物帶來的二次污染。等離子沖刷機外接一臺真空泵，工作時沖刷腔中的等離子體輕柔沖刷被沖刷物的表面，短時間的沖刷便可以使有機污染物被沖刷掉，同時污染物被真空泵抽走，其沖刷程度達到分子級。

　　等離子清洗機的沖刷器除了擁有超沖刷功能外，在特定條件下還可根據需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發生重組，形成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料，在超沖刷過程中等離子沖刷器的輝光放電不只加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。等離子沖刷器寬泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。